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工具:贗電容k1Tool-v2.6解決擬合交叉問題

專題網友投稿2020-06-25A+A-

感謝日本九州大學的郝博士提問:贗電容擬合時怎樣避免交叉線?譚編研究了CV曲線的特征,并將工具升級到v2.6完美解決交叉問題。非常感謝郝博士的貢獻和交流,促使了k1Tool的升級。

相信有不少同學還在為那些交叉的贗電容曲線而煩惱。這些交叉線往往會使贗電容的貢獻率大打折扣。不少同學坐不住了,趕緊將那些被你嫌棄的數據,利用k1Tool V2.6擬合一下吧!

圖1

理想狀態下,在極慢的CV掃描速度下,電極過程動力學越趨于可逆的平衡態。但是實際狀況下,多種因素可能導致不同掃描速度下,某些局部區域電流隨掃描速度并不滿足線性關系(圖1(a))。

CV曲線出現線性“塌陷”,擬合優度(Goodness of Fit)(確定系數)R^2并不高(例如圖1(c)中絕大多數點的R^2低于0.9),當然我們可以通過k1Tool V2.6丟棄這些局部異常區域,得到圖1(d)的結果。

1.k1Tool V2.6的使用方法

圖2k1Tool V2.6的使用方法

該工具的鏈接:

http://journal.scnu.edu.cn/editortan/cc/v2.6/

二維碼:

2. 贗電容曲線的繪制方法

選中我們需要繪制的某個掃速數據(例如1.5mV/s的E、ik1v),點擊下方的模板庫按鈕,找到譚編之前設計的贗電容模板,繪制出草圖。這個草圖很怪,因為我們擬合的曲線是斷斷續續的(因為丟棄了R^2低于0.95的數據)。此時,雙擊擬合曲線,去除線下填充,然后點擊斷續的擬合曲線,選擇菜單“Analysis-Mathematics-Trace interpolation”插值外推的方法重建一條完整的曲線,在彈窗中直接按確定即可。

圖3斷續的贗電容曲線繪制方法

最終得到如下曲線

這里用到【190903A】贗電容模板,請轉發本文到朋友圈,發截圖給譚編免費領取該模板,或者打賞哦。

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